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　　相信很多工作人員在使用(yong)激光鐳射(she)機鐳雕圖案(an)時(shi)(shi)時(shi)(shi)，經常可能碰到這(zhe)樣一(yi)個(ge)問題：“為(wei)什(shen)么(me)激光鐳雕效果會(hui)不均勻?”是什(shen)么(me)原因造成的呢(ni)?下面瀾速(su)激光為(wei)你提供4個(ge)因素，及其解(jie)決(jue)方法，希望能幫到您，如下：

　　激光鐳(lei)雕機(ji)雕刻效果不均勻(yun)現象有可能有以下(xia)幾個原因(yin)：

　　1、激光鐳雕機的機臺水平未調好，即(ji)振鏡(jing)頭或(huo)場(chang)鏡(jing)鏡(jing)頭與加工臺面不平行;

　　由于二者不(bu)水(shui)平(ping)，會導致激(ji)(ji)光(guang)光(guang)束通過(guo)場鏡后到達加(jia)(jia)工(gong)物(wu)件上(shang)的(de)距離長短不(bu)一(yi)致，激(ji)(ji)光(guang)落在加(jia)(jia)工(gong)物(wu)件上(shang)會有不(bu)一(yi)致的(de)密度，此(ci)時就會在材料上(shang)表現出效果的(de)不(bu)均勻(yun)。

　　2、采用(yong)偏焦標刻一定范圍的(de)內容;

　　因(yin)(yin)為每一個聚焦(jiao)鏡(場鏡)都有對應的(de)(de)焦(jiao)深范圍(wei)(wei)，而采(cai)用偏(pian)離焦(jiao)點(dian)的(de)(de)辦法會容(rong)易導致(zhi)大范圍(wei)(wei)標刻(ke)圖案時，邊緣處在焦(jiao)深臨界點(dian)或者(zhe)超出焦(jiao)深范圍(wei)(wei)，這樣就(jiu)比較容(rong)易造成效(xiao)果(guo)的(de)(de)不均勻性(xing)。因(yin)(yin)此，偏(pian)焦(jiao)標刻(ke)的(de)(de)方法須考慮(lv)激光能(neng)的(de)(de)問題(ti)。

　　3、激(ji)光(guang)(guang)鐳雕機激(ji)光(guang)(guang)輸出光(guang)(guang)斑被(bei)遮擋，即激(ji)光(guang)(guang)光(guang)(guang)束經過振鏡(jing)及場鏡(jing)后(hou)光(guang)(guang)斑有缺，不夠圓;

　　激(ji)光輸出頭、固定夾具(ju)與振(zhen)鏡(jing)等未調好，導致激(ji)光經過振(zhen)鏡(jing)頭時部分光斑被遮擋，經場(chang)鏡(jing)聚(ju)焦后(hou)在(zai)倍頻片上所呈現的光斑為非圓形，這樣(yang)也(ye)有可能會導致效(xiao)果不均勻。

　　還有一(yi)(yi)種(zhong)情(qing)況，即激(ji)(ji)光鐳雕(diao)機的(de)振鏡偏轉鏡片有損傷，當(dang)激(ji)(ji)光光束(shu)通過鏡片損傷區域時(shi)，無法很好(hao)地反射出去。因此(ci)，激(ji)(ji)光束(shu)經過鏡片損傷區域與鏡片無損傷區域激(ji)(ji)光能(neng)有不一(yi)(yi)致(zhi)，作用在材料(liao)上的(de)激(ji)(ji)光能(neng)也(ye)不一(yi)(yi)樣(yang)，從而(er)使標刻效果不均勻。

　　4、熱(re)透鏡(jing)現象;

　　當激(ji)光(guang)鐳雕機的激(ji)光(guang)通過光(guang)學鏡(jing)片(折(zhe)射、反射)時，會使鏡(jing)片發(fa)熱(re)產生細(xi)微的形變(bian)。這種(zhong)形變(bian)會使激(ji)光(guang)聚焦(jiao)焦(jiao)點上升，焦(jiao)距(ju)變(bian)短。若(ruo)機臺(tai)固定，將距(ju)離調整(zheng)到焦(jiao)點處時，開激(ji)光(guang)一段(duan)時間(jian)后，會因(yin)為熱(re)透鏡(jing)現象而(er)使作用在(zai)材料(liao)上的激(ji)光(guang)密度發(fa)生變(bian)化，從而(er)導致標刻(ke)效果不均勻。