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　　半導體激光打標機和光纖激光打標機居然相差這么多

　　光(guang)纖(xian)激(ji)光(guang)打(da)(da)(da)標(biao)機(ji)(ji)(ji)的(de)自我闡(chan)述(shu)：光(guang)纖(xian)激(ji)光(guang)打(da)(da)(da)標(biao)機(ji)(ji)(ji)是采用(yong)光(guang)纖(xian)激(ji)光(guang)器生(sheng)產的(de)激(ji)光(guang)的(de)打(da)(da)(da)標(biao)機(ji)(ji)(ji)，光(guang)束質量好，電(dian)光(guang)轉換效率高。50W的(de)半導(dao)體(ti)激(ji)光(guang)打(da)(da)(da)標(biao)機(ji)(ji)(ji)，耗電(dian)2kW左右(you)，10W或(huo)20W的(de)光(guang)纖(xian)激(ji)光(guang)打(da)(da)(da)標(biao)機(ji)(ji)(ji)耗電(dian)不(bu)到500W，而(er)10W的(de)光(guang)纖(xian)打(da)(da)(da)標(biao)機(ji)(ji)(ji)的(de)打(da)(da)(da)標(biao)速度和打(da)(da)(da)標(biao)效果比(bi)50W的(de)半導(dao)體(ti)打(da)(da)(da)標(biao)機(ji)(ji)(ji)還好。

　　半(ban)導體(ti)激光(guang)機內的激光(guang)模(mo)塊(kuai)理論使用(yong)壽(shou)命(ming)是1萬小(xiao)時，光(guang)纖激光(guang)機內的激光(guang)模(mo)塊(kuai)理論使用(yong)壽(shou)命(ming)是10萬小(xiao)時。光(guang)纖激光(guang)打標機體(ti)積(ji)小(xiao)，不含(han)電腦(nao)的用(yong)電功(gong)率<200W，整(zheng)機重量(liang)<22kg，采用(yong)內置風(feng)冷(leng)(leng)冷(leng)(leng)卻方式(shi)，拋棄了(le)笨重易出問題的水冷(leng)(leng)機組(zu)，占地面積(ji)更(geng)小(xiao)，安裝更(geng)簡便，真 正做到了(le)節能和便攜(xie)。

　　光(guang)纖激光(guang)打標機的光(guang)斑模式非常(chang)好，單線條(tiao)更細，適合做超(chao)精細的加工，配合高(gao)精度位圖軟(ruan)件，可以(yi)打出精美的照(zhao)片效果。因為光(guang)纖光(guang)使(shi)用率更高(gao)達到百分之(zhi)80以(yi)上，而半(ban)導體(ti)(ti)光(guang)使(shi)用率只有百分之(zhi)40左(zuo)右，所以(yi)10W光(guang)纖基本上涵(han)蓋(gai)了(le)50W半(ban)導體(ti)(ti)的加工范(fan)圍。

　　簡單(dan)易用，無(wu)須光(guang)(guang)學調整或維護，結構緊(jin)湊，系統集成(cheng)度高(gao)，故障(zhang)少，抗振動(dong)和(he)抗灰塵性能比(bi)半導體和(he)要好很多。新(xin)型的(de)光(guang)(guang)纖激(ji)光(guang)(guang)器(qi)均配了光(guang)(guang)隔(ge)離器(qi)，有 效屏(ping)蔽反(fan)(fan)射(she)光(guang)(guang)，完全可(ke)以在(zai)金、銀、銅、鋁(lv)、硅等(deng)高(gao)亮(liang)面(mian)高(gao)反(fan)(fan)射(she)材料上進行操作，不需要偏離場鏡(jing)正中 心，大大拓寬(kuan)了應(ying)用領域。