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淺談激光打標設備創新的重要性

發布時間:2018-11-14點擊量:

  經過(guo)(guo)多年的(de)(de)發(fa)展,我國(guo)激光(guang)(guang)打標(biao)設(she)(she)備(bei)已經成為全球增長速度快的(de)(de)國(guo)家之一(yi)。同時,我國(guo)的(de)(de)產(chan)業發(fa)展經歷了(le)從(cong)生產(chan)能力追趕(gan)到技(ji)術(shu)追趕(gan)的(de)(de)過(guo)(guo)程,產(chan)業技(ji)術(shu)進(jin)(jin)步從(cong)模仿制造、引進(jin)(jin)技(ji)術(shu)到引進(jin)(jin)技(ji)術(shu)消(xiao)化(hua)吸收(shou)與自主研(yan)發(fa)結合。進(jin)(jin)入(ru)本世紀以來,我國(guo)的(de)(de)激光(guang)(guang)打標(biao)設(she)(she)備(bei)投入(ru)快速增長,許多激光(guang)(guang)企業在研(yan)發(fa)經費的(de)(de)增長速度均(jun)超過(guo)(guo)年度營收(shou)的(de)(de)增速,產(chan)業技(ji)術(shu)發(fa)展和創(chuang)新進(jin)(jin)入(ru)轉型階段。下面(mian)我們來淺(qian)談激光(guang)(guang)打標(biao)設(she)(she)備(bei)要創(chuang)新以及激光(guang)(guang)企業也要創(chuang)新的(de)(de)重要性

  一是研發支出總量進入世界前列,但(dan)研發強(qiang)度(du)與創新型企業仍(reng)有較大差距。

  二(er)是創(chuang)新(xin)要素逐步向企業(ye)(ye)(ye)集聚(ju),企業(ye)(ye)(ye)創(chuang)新(xin)能力呈二(er)元(yuan)結構。一(yi)方(fang)面,企業(ye)(ye)(ye)已經成為激光(guang)打標設備要創(chuang)新(xin)投入的主力軍,另一(yi)方(fang)面,企業(ye)(ye)(ye)技術水平和(he)創(chuang)新(xin)能力開始分化(hua)。少數(shu)(shu)創(chuang)新(xin)型企業(ye)(ye)(ye)與多數(shu)(shu)跟隨(sui)企業(ye)(ye)(ye)并(bing)存(cun)。一(yi)些行業(ye)(ye)(ye)排頭(tou)兵企業(ye)(ye)(ye)基本達(da)到(dao)世界水平,在部分領域與跨(kua)國(guo)公司同臺競爭(zheng)。但大部分企業(ye)(ye)(ye)仍處于技術跟蹤(zong)和(he)模仿制造,以(yi)及低端加工(gong)制造和(he)低價(jia)競爭(zheng)階(jie)段,難以(yi)較(jiao)快積累足夠資(zi)金和(he)技術能力。

  三是市場力(li)量驅動企(qi)業(ye)多種形式(shi)創(chuang)新,以(yi)集成(cheng)創(chuang)新和(he)(he)引(yin)進(jin)技(ji)(ji)術(shu)消化(hua)吸(xi)收(shou)改進(jin)創(chuang)新為主(zhu)。近(jin)些年,企(qi)業(ye)加大自(zi)主(zhu)研發和(he)(he)引(yin)進(jin)技(ji)(ji)術(shu)消化(hua)吸(xi)收(shou)的投入力(li)度,產業(ye)技(ji)(ji)術(shu)進(jin)步從依靠跟蹤模(mo)仿(fang)和(he)(he)引(yin)進(jin)生產能力(li)逐步轉向引(yin)進(jin)技(ji)(ji)術(shu)消化(hua)吸(xi)收(shou)與自(zi)主(zhu)研發相結合(he)。

  四(si)是(shi)(shi)不僅激光(guang)打標設備的(de)技術產(chan)業需要(yao)創(chuang)(chuang)(chuang)新,企業運(yun)營管理亦具有創(chuang)(chuang)(chuang)新優勢(shi)。目前,盡管大多數企業對創(chuang)(chuang)(chuang)新的(de)認(ren)識還停留在技術層(ceng)面,但是(shi)(shi)也有部分企業已經(jing)對“創(chuang)(chuang)(chuang)新”進(jin)行了重新定義。技術創(chuang)(chuang)(chuang)新對于(yu)這(zhe)些(xie)企業來說(shuo)已經(jing)是(shi)(shi)低層(ceng)次的(de)創(chuang)(chuang)(chuang)新,他(ta)們(men)更看重企業的(de)整體創(chuang)(chuang)(chuang)新,意(yi)識的(de)創(chuang)(chuang)(chuang)新。

  五(wu)是從技(ji)術追趕走向局部(bu)趕超(chao)。經過(guo)多年發展,我國(guo)(guo)部(bu)分企業的創(chuang)新能力正在從量變(bian)到質變(bian),在部(bu)分技(ji)術領(ling)域從模(mo)仿(fang)、追趕者變(bian)為同行(xing)者,少數(shu)領(ling)域實現(xian)趕超(chao)。如,中國(guo)(guo)激(ji)(ji)光(guang)(guang)打(da)標設備(bei)中深紫外激(ji)(ji)光(guang)(guang)技(ji)術已經處于領(ling)頭地位。大功率光(guang)(guang)纖激(ji)(ji)光(guang)(guang)器(qi)、碟片(pian)激(ji)(ji)光(guang)(guang)器(qi)、CO2激(ji)(ji)光(guang)(guang)器(qi)與國(guo)(guo)際(ji)同行(xing)差(cha)距較小。